微纳实验室简介
    深圳清华大学研究院微纳工程重点实验室（以下简称微纳实验室）于2004年成立，是深圳清华大学研究院与清华大学摩擦学国家重点实验室共建的重点研究机构，是摩擦学国家重点实验室在深圳设立的分研究室（深圳微纳工程研究室）。
    微纳实验室主要从事微纳制造及纳米摩擦学跨学科研究，主要研究开发方向为面向计算机硬盘盘基片、磁头、集成电路芯片、半导体晶片、LED衬底晶片、光纤连接器、宝石、光学玻璃、金属材料等领域的超精表面抛光技术工艺及抛光液等产品；微纳实验室还致力于超精加工、电池材料、润滑材料等领域微米、纳米级颗粒的研究开发，如氧化硅、氧化铝、氧化铈、磷酸铁锂、金属等颗粒的制备、分散、改性等。
    微纳实验室自成立以来，承担了多项国家和省部级科研项目，包括国家重点基础研究发展规划（973）项目、国家十一五科技重大专项项目、国家自然科学基金委—广东联合基金重点项目、科技部国际科技合作项目 、国家自然科学基金项目、国家863重点项目等。
研究队伍
    微纳实验室拥有研究开发人员20余名，其中中科院院士一名，教授两名，副教授一名，大多数研发人员拥有硕士以上学历。经过不断努力，实验室已经具备了高水平的科学研究能力以及产品开发能力。
研发方向 
    集成电路抛光 
    集成电路(IC)尤其是超大规模集成电路(ULSI)是现代半导体工业的核心技术，是现代信息社会发展的基础。现代集成电路的设计多采用多层铜互连技术，以适应集成电路微型化对互连材料低电阻率、高抗电子迁移特性的要求。
    研究内容：主要研究集成电路制造过程中化学机械抛光（CMP）技术，开发CMP抛光液，包括Cu层抛光液、SiO2抛光液等。
    硬盘盘基片抛光 
   随着垂直磁记录技术的应用，计算机硬盘存储密度大幅度提高。同时，硬盘磁头的飞行高度进一步降低，这就要求硬盘盘基片表面更加光滑、表面粗糙度更小。
    本研究方向主要致力于计算机硬盘盘基片（铝基片与玻璃基片）的超精密表面抛光。一直以来，与国内最大的硬盘盘基片制造商保持长期合作，主要技术指标如硬盘盘基片的表面波纹度Wa、表面粗糙度Ra等达到国际先进水平。具体包括：
    1)硬盘铝基片粗抛液的研究与开发
    2)硬盘铝基片精抛液的研究与开发
    3)硬盘玻璃基片抛光液的研究与开发
    金属材料抛光
    主要从事不锈钢、铜等金属材料表面抛光技术研究开发，目前已经开发出抛光蜡等多种抛光耗材。
    半导体材料抛光
    硅抛光片是制造IC芯片的基础材料，高品质的硅单晶抛光片是基本条件。目前IC技术已迈进了纳米电子时代，对硅单晶抛光片的表面加工质量要求愈来愈高。
    实验室已经进行了多年的集成电路硅晶片抛光技术及超精抛光液研究，在总厚度变化、微粗糙度、抛光液循环使用寿命等关键技术指标方面形成突破，达到甚至超过国际先进抛光液的技术水平，相关抛光液在国内硅片抛光生产线上获得应用，替代了国外进口抛光液。
    化合物抛光
    本实验室主要针对蓝宝石、碳化硅、光学玻璃、钽酸锂、氟化钙等化合物材料所面临的表面超精抛光技术瓶颈开展研究，研究开发相关的抛光技术及高端抛光液。
    微纳米材料 
    纳米颗粒一般指粒度在100纳米以下的粉末或颗粒，是一种介于原子、分子与宏观物体之间处于中间物态的固体颗粒材料，在许多领域获得广泛应用。
    本实验室主要致力于磁性材料、稀土氧化物、金属材料及电池材料等的微纳米化加工工艺的研究与开发。
具体内容包括:
1）超微细粉体加工工艺的研究与开发；
2）纳米材料分散剂的研究与开发；
3）复合纳米颗粒的合成研究与开发；
4）超高纯纳米二氧化硅生产工艺的研究与开发等。
联系方式
    地址：深圳高新技术产业园南区深圳清华大学研究院C区708室
    电话：0755 - 2695 7638
    0755 - 2695 7002
    传真：0755 - 2695 7008
    邮件：pangs@tsinghua.edu.cn